天天草天天干,日韩精选在线观看,亚洲av无码成h人动漫无遮挡不卡

就

是

對(duì)

待

工

作

的

態(tài)

度

，

個(gè)產(chǎn)品，

對(duì)待每一

做到極致認(rèn)真

每一個(gè)零件

細(xì)
致

每一組數(shù)據(jù)

智能型HMDS真空系統(tǒng)（JS-HMDS90-AI）
潔凈烘箱，百級(jí)無(wú)塵烘箱
氮?dú)夂嫦洌艹涞嫦?/div>
LCP熱處理烘箱，LCP纖維氮?dú)夂嫦?/div>
熱風(fēng)循環(huán)真空烘箱，高溫?zé)犸L(fēng)真空烤箱
HMDS預(yù)處理系統(tǒng)(JS-HMDS90 )
智能型無(wú)塵無(wú)氧烘箱（PI烤箱）
真空無(wú)氧固化爐，高溫?zé)o氧烘箱
精密烤膠臺(tái)，高精度烘膠機(jī)
超低溫試驗(yàn)箱，零下-120度高低溫箱

最新消息

熱搜：HMDS烘箱無(wú)塵烤箱無(wú)氧烤箱

新聞動(dòng) 態(tài)

NEWS

數(shù)顯恒溫加熱臺(tái)在光刻工藝中的應(yīng)用

來(lái)源: | 作者:雋思半導(dǎo)體設(shè)備部 | 發(fā)布時(shí)間: 2022-04-27 | 993 次瀏覽 | 分享到:

數(shù)顯恒溫加熱臺(tái)在光刻工藝的烘烤目的

光刻工藝中需要烘烤的步驟有：預(yù)烘培和底漆涂敷、軟烘烤、曝光后烘烤、硬烘烤。

軟烘烤將光刻膠從液態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)楣虘B(tài)，增強(qiáng)光刻膠在晶體表面的附著力；

PEB（曝光后烘烤）的目的是降低駐波效應(yīng)；

硬烘烤的目的是除去光刻膠內(nèi)的殘余溶劑、增加光刻膠的強(qiáng)度，并通過(guò)進(jìn)一步的聚合作用改進(jìn)光刻膠的刻蝕與離子注入的抵抗力，增強(qiáng)了光刻膠的附著力。

數(shù)顯恒溫加熱臺(tái)的用途

數(shù)顯恒溫加熱臺(tái)用于晶圓的單面烘烤，可用于預(yù)烘烤（Pre-bake），前烘（soft bake），底膠涂覆（Primer Vapor）和后烘烤(hardbake堅(jiān)膜)工藝。適應(yīng)于半導(dǎo)體硅片，載玻片，晶片，基片，ITO導(dǎo)電玻璃等工藝，制版的表面涂覆后，薄膜烘干，固化。熱板溫度穩(wěn)定度高，重復(fù)性好。

加熱面積尺寸：160mm*160mm、220mm*220mm，多尺寸定制

控溫范圍：室溫--200、300/400/500/600℃

溫度分辨率：0.1℃

溫度波動(dòng)度：≤±0.5℃

溫度均勻性：≤±0.5/1℃

可選配功能：

支撐pin材料

邊緣支撐pin

N2吹掃，無(wú)氧化烘烤

烘焙距離可調(diào)模組

真空腔體

智能型控制系統(tǒng)